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勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。勻膠機的工作過程：送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100-9900轉/分(±10轉/分)，起動加速度可調。每道程序的持續時間，轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等工藝參數均可通過編程控制。勻膠機有一個或多個滴膠系統，可...

小型涂膜機的使用前準備：機器開箱，有三部分組成：整機、刮刀組件、電源線選配件：烘干系統、真空系統1、將機器木箱及紙箱小心拆開，嚴禁倒置敲砸,將機器平穩放在承重平面上。2、檢查所有外觀部分，保證無損傷變形，松動。3、將刮刀部分編號：2與整機分開放置，檢查刮刀，同時旋轉數顯表左右調節鈕，觀察刀體是否能上下自如活動，確認后，打開數顯開關，調到MM單位，調試清零鍵等。小型涂膜機的開機調試：1、在確認前兩步后，插上220V電源。2、按下機器面板上電源按鍵，綠燈會亮起，會聽到一聲電機通電...

自動顯影勻膠機采用進口旋轉馬達，通過精準定位系統，輔以皮帶傳送，實現光刻膠的自動涂覆，前烘。旋轉速度達6000rpm,*加工片數多達10000片以上。自動勻膠具有加工速度快，涂覆均勻性好，節省光刻膠等特點。設備具有操作簡單，維護量小等特點。自動顯影勻膠機的產品特點：1、設備采用高效機械手，重復定位精度高、產能高，自動完成勻膠、顯影工藝；2、配備烘烤及冷卻單元，工藝參數數字化檢測控制，自由編制、修改、儲存、調用工藝程序；3、故障、生產工藝參數等記錄等可長期保存備查；4、操作簡便...

勻膠機的原理是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。選擇勻膠機需要考慮以下三個方面：1、旋轉速度轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速如果誤勻膠機圖冊差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。國產的大部分低端勻膠機只能提供轉速范圍，并不能標定實時的轉速。2、真空吸附系統的構造真空泵一定要無油的，...

實驗室涂膜機的操作方法：一、使用前準備1、將機器木箱及紙箱小心拆開，嚴禁倒置敲砸,將機器平穩放在承重平面上。2、檢查所有外觀部分，保證無損傷變形，松動.3、將刮刀部分編號:2與整機分開放置，檢查刮刀，同時旋轉數顯表左右調節鈕，觀察刀體是否能上下自如活動，確認后，打開數顯開關，調到MM單位，調試清零鍵等。二、開機調試1、在確認前兩步后，插上220V電源2、按下機器面板上電源按鍵，綠燈會亮起，會聽到一聲電機通電產生的脈沖音3、輕按開始按鍵，推力桿編號:3會向右移動，然后會折返停留...

臺式勻膠機適合半導體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合半導體大型晶圓硅片,芯片,晶片,基片,液晶片,華陽板等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。臺式勻膠機的設備特點：1、該設備采用先進技術,使用進口配件使高轉速加速度更加穩定,控制更加精確.電機采用新型直流永磁電機抗電磁干擾。2、定子和轉子分開供電.定子用穩定電源供勵磁電流,轉子用開關電源調速,它比可用控硅調速*得多,轉速在1000~8000轉/分范圍內非常穩定。在未取得真空的狀態不會轉到,保證了使用的可靠性。3、本勻膠...

涂膜機主要用于制備涂膜,其重現性好。因手工涂膜經常不協調，特別是不同操作人員之間，這就使得試樣的比較很困難，甚至是不可靠。因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量，該自動涂膜機使用一個可控制的線棒或各種涂膜器，以選定的速度來制備涂膜。由于試板平整地放在玻璃板上，涂膜時剪切速率和加在施工工具上的重量保持不變，從而大大提高了涂膜的重現性，獲得對涂膜的物理性、外觀、化學性能一致均勻的涂膜。涂膜機的使用方法：1、接好電源。2、將待涂布底材(如：黑白紙)平放在涂布底座上，打開...